ತೊಳೆಯುವ ಕಿಣ್ವ

ಕಿಣ್ವ ತೊಳೆಯುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ, ಸೆಲ್ಯುಲೇಸ್‌ಗಳು ಹತ್ತಿ ನಾರುಗಳ ಮೇಲೆ ತೆರೆದಿರುವ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಮೇಲೆ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುತ್ತವೆ, ಬಟ್ಟೆಯಿಂದ ಇಂಡಿಗೋ ಬಣ್ಣವನ್ನು ಮುಕ್ತಗೊಳಿಸುತ್ತವೆ. ಕಿಣ್ವ ತೊಳೆಯುವಿಕೆಯಿಂದ ಸಾಧಿಸಲಾದ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ತಟಸ್ಥ ಅಥವಾ ಆಮ್ಲೀಯ pH ನ ಸೆಲ್ಯುಲೇಸ್ ಅನ್ನು ಬಳಸುವ ಮೂಲಕ ಮತ್ತು ಉಕ್ಕಿನ ಚೆಂಡುಗಳಂತಹ ವಿಧಾನಗಳಿಂದ ಹೆಚ್ಚುವರಿ ಯಾಂತ್ರಿಕ ಆಂದೋಲನವನ್ನು ಪರಿಚಯಿಸುವ ಮೂಲಕ ಮಾರ್ಪಡಿಸಬಹುದು.

ಇತರ ತಂತ್ರಗಳಿಗೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ, ಕಿಣ್ವ ತೊಳೆಯುವಿಕೆಯ ಪ್ರಯೋಜನಗಳನ್ನು ಕಲ್ಲು ತೊಳೆಯುವುದು ಅಥವಾ ಆಮ್ಲ ತೊಳೆಯುವುದಕ್ಕಿಂತ ಹೆಚ್ಚು ಸಮರ್ಥನೀಯವೆಂದು ಪರಿಗಣಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಏಕೆಂದರೆ ಇದು ಹೆಚ್ಚು ನೀರಿನ ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ. ಕಲ್ಲು ತೊಳೆಯುವಿಕೆಯಿಂದ ಉಳಿದಿರುವ ಪ್ಯೂಮಿಸ್ ತುಣುಕುಗಳನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕಲು ಸಾಕಷ್ಟು ನೀರು ಬೇಕಾಗುತ್ತದೆ, ಮತ್ತು ಆಮ್ಲ ತೊಳೆಯುವಿಕೆಯು ಅಪೇಕ್ಷಿತ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸಲು ಬಹು ತೊಳೆಯುವ ಚಕ್ರಗಳನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುತ್ತದೆ.[5] ಕಿಣ್ವಗಳ ತಲಾಧಾರ-ನಿರ್ದಿಷ್ಟತೆಯು ಡೆನಿಮ್ ಅನ್ನು ಸಂಸ್ಕರಿಸುವ ಇತರ ವಿಧಾನಗಳಿಗಿಂತ ತಂತ್ರವನ್ನು ಹೆಚ್ಚು ಪರಿಷ್ಕರಿಸುತ್ತದೆ.

ಇದು ಅನಾನುಕೂಲಗಳನ್ನು ಸಹ ಹೊಂದಿದೆ, ಕಿಣ್ವ ತೊಳೆಯುವಲ್ಲಿ, ಕಿಣ್ವಕ ಚಟುವಟಿಕೆಯಿಂದ ಬಿಡುಗಡೆಯಾಗುವ ಬಣ್ಣವು ಜವಳಿ ಮೇಲೆ ಮತ್ತೆ ಠೇವಣಿ ಇಡುವ ಪ್ರವೃತ್ತಿಯನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತದೆ ("ಬೆನ್ನು ಕಲೆ ಹಾಕುವುದು"). ತೊಳೆಯುವ ತಜ್ಞರಾದ ಅರಿಯಾನಾ ಬೊಲ್ಜೋನಿ ಮತ್ತು ಟ್ರಾಯ್ ಸ್ಟ್ರೆಬೆ ಅವರು ಕಲ್ಲಿನಿಂದ ತೊಳೆಯಲ್ಪಟ್ಟ ಡೆನಿಮ್‌ಗೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ ಕಿಣ್ವ-ತೊಳೆದ ಡೆನಿಮ್‌ನ ಗುಣಮಟ್ಟವನ್ನು ಟೀಕಿಸಿದ್ದಾರೆ ಆದರೆ ಸರಾಸರಿ ಗ್ರಾಹಕರು ವ್ಯತ್ಯಾಸವನ್ನು ಪತ್ತೆಹಚ್ಚುವುದಿಲ್ಲ ಎಂದು ಒಪ್ಪುತ್ತಾರೆ.

ಮತ್ತು ಇತಿಹಾಸದ ಬಗ್ಗೆ, 1980 ರ ದಶಕದ ಮಧ್ಯಭಾಗದಲ್ಲಿ, ಕಲ್ಲು ತೊಳೆಯುವಿಕೆಯ ಪರಿಸರ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಗುರುತಿಸುವುದು ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚುತ್ತಿರುವ ಪರಿಸರ ನಿಯಮಗಳು ಸುಸ್ಥಿರ ಪರ್ಯಾಯಕ್ಕಾಗಿ ಬೇಡಿಕೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸಿದವು. ಕಿಣ್ವ ತೊಳೆಯುವಿಕೆಯನ್ನು 1989 ರಲ್ಲಿ ಯುರೋಪ್‌ನಲ್ಲಿ ಪರಿಚಯಿಸಲಾಯಿತು ಮತ್ತು ಮುಂದಿನ ವರ್ಷ ಯುನೈಟೆಡ್ ಸ್ಟೇಟ್ಸ್‌ನಲ್ಲಿ ಅಳವಡಿಸಲಾಯಿತು. 1990 ರ ದಶಕದ ಅಂತ್ಯದಿಂದ ಈ ತಂತ್ರವು ಹೆಚ್ಚು ತೀವ್ರವಾದ ವೈಜ್ಞಾನಿಕ ಅಧ್ಯಯನದ ವಿಷಯವಾಗಿದೆ. 2017 ರಲ್ಲಿ, ನೊವೊಜೈಮ್‌ಗಳು ತೆರೆದ ತೊಳೆಯುವ ಯಂತ್ರಕ್ಕೆ ಕಿಣ್ವಗಳನ್ನು ಸೇರಿಸುವ ಬದಲು ಮುಚ್ಚಿದ ತೊಳೆಯುವ ಯಂತ್ರ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಲ್ಲಿ ಕಿಣ್ವಗಳನ್ನು ನೇರವಾಗಿ ಡೆನಿಮ್ ಮೇಲೆ ಸಿಂಪಡಿಸುವ ತಂತ್ರವನ್ನು ಅಭಿವೃದ್ಧಿಪಡಿಸಿದವು, ಕಿಣ್ವ ತೊಳೆಯಲು ಅಗತ್ಯವಿರುವ ನೀರನ್ನು ಮತ್ತಷ್ಟು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಿತು.